将所述待清洗的硅片放入所述多面超声清洗机的清洗槽内，使所述底超声震板位于所述硅片的底部，所述多个侧超声震板相对设置于所述硅片的两侧；以及利用所述多个超声震板的超声振动作用清洗所述待清洗的硅片。待清洗的硅片放入所述清洗槽内，所述硅片的厚度方向与每个所述侧超声震板的设置方向相同。利用多个超声震板的超声振动作用清洗所述待清洗的硅片时，调节超声振子的功率使所述超声震板的功率密度为0.2-4w/cm²，调节超声振子的频率使所述超声振子的超声频率为10khz-850khz。待清洗的硅片通过花篮放置于所述清洗槽内，所述花篮具有至少一个插槽，所述硅片设置于所述插槽中。花篮为多个，所述多个花篮在所述清洗槽内依次设置，形成多行和/或多列，并且设置为一层或多层。超声清洗机解决了现有的超声清洗机硅片表面清洗效果差，清洗效率低的问题。多面超声清洗机的超声功率密度更高、超声场更为均匀，有利于超声清洗硅片。利用本发明的硅片超声清洗方法，硅片表面清洗效果好、清洗效率高，并且清洗硅片数量多，提高清洗产能。