(DC)AC10V  最大电流 100A （对于真空镀膜）

DC 3KV, 10mA   （对于等离子溅射）

真空腔体

有一玻璃钟罩：250mm dia. x 340mm

（2）玻璃处理室：玻璃罩 A:内径８８mm×高度１４０mm（用于真空镀膜)

玻璃罩 B:内径８８mm×高度５７mm（用于等离子溅射）

镀膜装置

对于制膜，仪器可设置三种模式：

（1）一种模式专门针对于蒸发镀膜（下方左图）此仪器可以同时蒸镀两种材料，其最高温度可以达到1800℃采用钨丝进行加热（2）蒸碳镀膜模式（下方中图）

仪器中包括有两组碳棒

（3）直流等离子溅射模式（下方右图）仪器中包含有一金靶（38mm Dia x 0.2 mm t）可在本公司选购其他材质靶材

样品台可以自动转动（见左图）

样品台尺寸：40mm

仪器上安装有一电动快门用于控制蒸镀的开始与停止（见右图）

仪器下端安装有一机械泵和分子泵

抽速:600L/S

真空度:  10-6 torr

设备工作环境温度:< 32°C

在控制面板上可以选择镀膜模式，调节溅射电流和蒸发功率