多面超声清洗机，用于超声清洗硅片，所述多面超声清洗机具有清洗槽以及设置于所述清洗槽的多个超声震板，所述清洗槽用于放置硅片，所述多个超声震板包括至少一个底超声震板和多个侧超声震板，所述底超声震板位于所述硅片的底部，所述多个侧超声震板相对设置于所述硅片的两侧。多个所述超声振子组沿第二方向等间隔设置，所述第二方向垂直于第一方向，沿第二方向，相邻的两个超声振子组中，一个超声振子组的超声振子正对另一个超声振子组的两个超声振子之间的间隙。